Penapis wap-cecair adalah bahagian penting dalam menara penyahsulfurisasi. Fungsi penapis wap-cecair adalah untuk menangkap zarah kabus dan titisan buburan yang terperangkap dalam asap semasa proses penyerapan semburan. Kecekapan penapis wap-cecair bukan sahaja berkaitan dengan struktur badan, tetapi juga kepada berat dan saiz zarah zarah kabus. Diameter zarah pengabusan muncung adalah berkaitan dengan kelikatan cecair penyerapan, daya cakar semburan dan struktur muncung. Hanya apabila prestasi penapis wap-cecair dipadankan dengan diameter zarah kabus, kesan nyahfogging yang baik boleh dicapai.
Prestasi penapis wap-cecair akan dipengaruhi oleh perbezaan tekanan, yang biasanya merujuk kepada kehilangan tekanan yang disebabkan oleh asap yang melalui paip penyahkabusan penapis wap-cecair. Ia adalah perlu untuk mengawal keadaan kerja secara munasabah semasa bekerja. Jarak antara bilah penapis wap-cecair keluli tahan karat juga ditakrifkan dengan jelas. Jika jarak terlalu besar, ia akan membawa kepada pengurangan dalam kesan nyahfogging, asap yang serius membawa air, dan menjejaskan kipas.
Penapis wap-cecair ialah peralatan rawatan gas sisa industri untuk penyahsulfuran gas serombong. Pada masa ini, kriteria utama untuk mengukur parameter prestasi penapis wap-cecair ialah kandungan dan diameter titisan kabus dalam gas serombong yang melalui penapis wap-cecair. Dan faktor yang mempengaruhi prestasi penapis wap-cecair juga termasuk banyak jenis: halaju gas serombong, keseragaman pengagihan aliran udara, struktur bilah, jarak antara bilah, gaya susun atur penapis wap-cecair, dsb.
Penapis wap-cecair harus dengan munasabah memahami keadaan kerja semasa kerja, dan cuba mengekalkan perbezaan tekanan dalam 200Pa. Jarak bilah di dalam penapis wap-cecair juga ditakrifkan dengan jelas. Jika jarak terlalu besar, kesan nyahfogging akan dikurangkan, asap akan membawa air dengan serius, dan kipas akan terjejas. Dalam hal ini, pengeluar penapis wap-cecair kami menetapkan padang bilah dalam 20-95nm mengikut sistem gas serombong penapis wap-cecair. Pic yang biasa digunakan pada masa ini ialah 30-50nm.
Secara amnya, keperluan prestasi penapis wap-cecair adalah untuk membiarkan kandungan purata titisan yang melalui penapis wap-cecair kurang daripada 75mg / Nm3 dalam satu tempoh, dan diameter titisan bukan kabus adalah lebih besar daripada 15μm . Jaraknya adalah dalam 1-2 meter berhampiran penapis wap-cecair.
